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J-GLOBAL ID：200903075813717340

表面処理粉体及びこれを含有する化粧料

Inventor： 西浜 脩二 ,  金田 勇 ,  曽我部 敦 ,  大澤 友
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Agent (1)： 岩橋 祐司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005270008
Publication number (International publication number)：2006131887
Application date： Sep. 16, 2005
Publication date： May. 25, 2006
Summary：

【課題】 疎水性に優れるとともに、洗い流し性の改善された表面処理粉体、及びこれを含有する化粧料を提供する。【解決手段】 粉体表面上に、下記一般式(1)で示されるモノマー(A)を構成モノマーとして含有するポリマーが被覆されていることを特徴とする表面処理粉体。【化1】(式中、R1は水素又は炭素数1〜3のアルキル基、R2は炭素数4〜22のアルキレン基、X1は-NH-基又は酸素原子、M1は水素又は1価の無機又は有機カチオンを表す。)【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

粉体表面上に、下記一般式(1)で示されるモノマー(A)を構成モノマーとして含有するポリマーが被覆されていることを特徴とする表面処理粉体。

IPC (16)：

C09D 133/00 ,  A61K 8/19 ,  A61K 8/49 ,  A61K 8/72 ,  A61K 8/96 ,  A61K 8/18 ,  A61Q 1/02 ,  C08F 20/26 ,  C08F 20/34 ,  C08F 20/54 ,  C08F 30/02 ,  C08F 30/08 ,  C09D 5/03 ,  C09D 133/04 ,  C09D 133/14 ,  C09D 133/24

FI (15)：

C09D133/00 ,  A61K7/00 B ,  A61K7/00 D ,  A61K7/00 J ,  A61K7/00 K ,  A61K7/02 P ,  C08F20/26 ,  C08F20/34 ,  C08F20/54 ,  C08F30/02 ,  C08F30/08 ,  C09D5/03 ,  C09D133/04 ,  C09D133/14 ,  C09D133/24

F-Term (143)：

4C083AA082 ,  4C083AA112 ,  4C083AA122 ,  4C083AA161 ,  4C083AA162 ,  4C083AB032 ,  4C083AB082 ,  4C083AB171 ,  4C083AB172 ,  4C083AB211 ,  4C083AB212 ,  4C083AB231 ,  4C083AB232 ,  4C083AB241 ,  4C083AB242 ,  4C083AB282 ,  4C083AB312 ,  4C083AB332 ,  4C083AB361 ,  4C083AB362 ,  4C083AB432 ,  4C083AB441 ,  4C083AB442 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC092 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC172 ,  4C083AC212 ,  4C083AC242 ,  4C083AC262 ,  4C083AC302 ,  4C083AC342 ,  4C083AC352 ,  4C083AC372 ,  4C083AC392 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC442 ,  4C083AC482 ,  4C083AC532 ,  4C083AC542 ,  4C083AC582 ,  4C083AC662 ,  4C083AC692 ,  4C083AC712 ,  4C083AC792 ,  4C083AC842 ,  4C083AC852 ,  4C083AC912 ,  4C083AD011 ,  4C083AD012 ,  4C083AD022 ,  4C083AD042 ,  4C083AD071 ,  4C083AD072 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD112 ,  4C083AD131 ,  4C083AD132 ,  4C083AD152 ,  4C083AD161 ,  4C083AD162 ,  4C083AD172 ,  4C083AD212 ,  4C083AD222 ,  4C083AD241 ,  4C083AD242 ,  4C083AD252 ,  4C083AD262 ,  4C083AD272 ,  4C083AD302 ,  4C083AD332 ,  4C083AD342 ,  4C083AD352 ,  4C083AD412 ,  4C083AD492 ,  4C083AD512 ,  4C083AD532 ,  4C083AD572 ,  4C083AD642 ,  4C083AD662 ,  4C083BB25 ,  4C083BB32 ,  4C083BB33 ,  4C083BB34 ,  4C083CC01 ,  4C083CC02 ,  4C083CC03 ,  4C083CC05 ,  4C083CC11 ,  4C083CC12 ,  4C083CC13 ,  4C083CC14 ,  4C083CC19 ,  4C083CC31 ,  4C083CC33 ,  4C083DD11 ,  4C083DD17 ,  4C083DD21 ,  4C083DD22 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083DD28 ,  4C083DD31 ,  4C083DD32 ,  4C083DD38 ,  4C083DD39 ,  4C083EE07 ,  4C083EE11 ,  4C083FF01 ,  4J038CG141 ,  4J038CG171 ,  4J038CH141 ,  4J038CH15 ,  4J038CH211 ,  4J038CH261 ,  4J038DL131 ,  4J038GA06 ,  4J038GA13 ,  4J038MA02 ,  4J038PB01 ,  4J100AL04Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AM21P ,  4J100AM21Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA05Q ,  4J100BA08Q ,  4J100BA16P ,  4J100BA31Q ,  4J100BA56Q ,  4J100BA64Q ,  4J100BA81Q ,  4J100BB01Q ,  4J100BB17Q ,  4J100BC43P ,  4J100JA61

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開昭60-163973号公報
  
• 特開昭62-177070号公報
  
• 処理粉体およびそれを配合した化粧料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-170355   Applicant：株式会社資生堂