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J-GLOBAL ID：200903075814376864

超短電磁波パルスの波形処理方法及びその装置

Inventor： 市川 裕之
Applicant, Patent owner： 科学技術振興事業団
Agent (1)： 清水 守
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999227006
Publication number (International publication number)：2001051211
Application date： Aug. 11, 1999
Publication date： Feb. 23, 2001
Summary：

【要約】【課題】 装置を小型化し、かつ簡素化することができる超短電磁波パルスの波形処理方法及びその装置を提供する。【解決手段】 超短電磁波パルスの波形処理装置において、超短電磁波パルスを発生する超短電磁波パルス源としての超短パルスレーザー101と、この超短パルスレーザー101から得られる超短電磁波パルス波形を整形・圧縮する線形媒質上に形成された回折格子102とを具備する。

Claim (excerpt)：

超短電磁波パルスの波形処理方法において、線形媒質上に形成された1枚のみの回折格子を用い、非線形光学効果を用いることなく超短電磁波パルス波形を整形・圧縮することを特徴とする超短電磁波パルスの波形処理方法。

IPC (2)：

G02B 26/00 ,  H01S 3/10

FI (2)：

G02B 26/00 ,  H01S 3/10 A

F-Term (5)：

5F072HH07 ,  5F072KK07 ,  5F072MM20 ,  5F072RR01 ,  5F072SS08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平3-120511
  
• 特開昭63-103214