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J-GLOBAL ID：200903075824291816

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor：
児玉 邦彦

About 児玉 邦彦


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (2)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007114494
Publication number (International publication number)：2008268744
Application date： Apr. 24, 2007
Publication date： Nov. 06, 2008
Summary：
【課題】パターン倒れ、ラインエッジラフネス性能が改良され、良好なプロファイルのパターンを形成するポジ型感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により、一般式(II)で表される酸を発生する化合物、及び、(B)一般式(I)で表される酸分解性繰り返し単位を含有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。式中、各記号は所定の原子または基を表す。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)活性光線又は放射線の照射により、一般式(II)で表される酸を発生する化合物、及び、 (B)一般式(I)で表される酸分解性繰り返し単位を含有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、 を含有するポジ型感光性組成物。
IPC (4)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/10
FI (4)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/10
F-Term (24)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100BA03P ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BA40P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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