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J-GLOBAL ID：200903075857694495

光触媒酸化チタン膜の製造方法

Inventor： 伊藤 征司郎 ,  多田 弘明 ,  岩崎 光伸 ,  大中 隆 ,  萩野 清二
Applicant, Patent owner： 株式会社日本アルミ
Agent (1)： 青山 葆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998295241
Publication number (International publication number)：2000128535
Application date： Oct. 16, 1998
Publication date： May. 09, 2000
Summary：

【要約】【課題】 紫外線領域だけでなく可視光線領域においても高い光触媒活性を有する酸化チタン膜を提供すること。【解決手段】 2価のコバルトイオンを含む酸化チタンゾルを基板上にコーティングする工程と、該コーティング膜を400〜800°Cで焼成する工程と、を備え、コバルトのモル量を、チタンとコバルトの合計モル量に対して、0.00001〜10%としたことを特徴としている。

Claim (excerpt)：

光触媒活性を有する酸化チタン膜を製造する方法において、2価のコバルトイオンを含む酸化チタンゾルを基板上にコーティングする工程と、該コーティング膜を400〜800°Cで焼成する工程と、を備え、酸化チタンゾルにおけるコバルトのモル量を、チタンとコバルトの合計モル量に対して、0.00001〜10%としたことを特徴とする光触媒酸化チタン膜の製造方法。

IPC (4)：

C01G 23/053 ,  B01J 35/02 ,  C01G 23/00 ,  C23C 18/12

FI (4)：

C01G 23/053 ,  B01J 35/02 J ,  C01G 23/00 C ,  C23C 18/12

F-Term (16)：

4G047CA05 ,  4G047CB06 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4K022AA03 ,  4K022BA06 ,  4K022BA15 ,  4K022BA22 ,  4K022BA33 ,  4K022DA06 ,  4K022DA08 ,  4K022DB01 ,  4K022DB04 ,  4K022DB07 ,  4K022DB08 ,  4K022EA01