露光方法および露光装置ならびに処理装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：牧哲郎 , 牧レイ子 , 菊谷公男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003388869
Publication number (International publication number)：2004184994
Application date： Nov. 19, 2003
Publication date： Jul. 02, 2004
Summary：

【課題】大型の基板の全域に、正確にパターンを露光可能な露光方法および露光装置ならびにパターン形成方法およびその装置を提供する。【解決手段】この発明は、被露光用基板上に露光領域を連続的あるいは逐次的に移動させながら所定のパターンを露光する露光装置に関し、被露光用基板の板厚変動が特定の一方向に大きく生じる方向に沿って露光領域を移動させる基板ステージ15と、被露光用基板面の変位を検知する凹凸状態検知装置10と、被露光用基板面の傾きと高さを制御するアクチュエータ16を有し、検知した変位に応じて被露光用基板面の傾きと高さを制御し、露光時には常時、露光の結像面を被露光用基板面に概ね一致させるものである。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

被露光用基板の被露光面に存在する凹凸の大きな方向に沿って露光領域を移動させることにより、被露光用基板上の露光領域を連続的あるいは逐次的に移動させながら所定のパターンを露光する露光方法。

IPC (3)：

G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/68

FI (3)：

G03F7/20 501 , H01L21/68 F , H01L21/30 515G

F-Term (19)：

2H097AA03 , 2H097AB09 , 2H097DB11 , 2H097GB02 , 2H097LA12 , 5F031CA05 , 5F031HA53 , 5F031JA06 , 5F031JA28 , 5F031JA30 , 5F031JA32 , 5F031JA38 , 5F031KA06 , 5F031KA07 , 5F031LA10 , 5F031MA27 , 5F046CC13 , 5F046CC17 , 5F046DA14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

薄膜トランジスタの製造方法及び電気光学装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-201904 Applicant：セイコーエプソン株式会社

Cited by examiner (9)

薄膜トランジスタの製造方法及び電気光学装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-201904 Applicant：セイコーエプソン株式会社
露光用基板、露光方法および露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-251235 Applicant：株式会社ニコン
液晶表示装置およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-124745 Applicant：鹿児島日本電気株式会社

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