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J-GLOBAL ID：200903075877300884
反射防止膜および画像表示装置
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
柳川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999157804
Publication number (International publication number)：2000075105
Application date： Jun. 04, 1999
Publication date： Mar. 14, 2000
Summary：
【要約】【課題】 低屈折率層の屈折率を上昇させることなく、低屈折率層の表面を汚れから保護し、さらに耐傷性も改善する。【解決手段】 透明支持体および透明支持体よりも低い屈折率と3乃至50体積%の空隙率とを有する低屈折率層が積層されている反射防止膜において、低屈折率層の上に含フッ素化合物を含むオーバーコート層をさらに積層させ、オーバーコート層の材料が低屈折率層の空隙を占有している割合を70体積%未満とする。
Claim (excerpt)：
透明支持体および透明支持体よりも低い屈折率と3乃至50体積%の空隙率とを有する低屈折率層が積層されている反射防止膜であって、該低屈折率層の上に含フッ素化合物を含むオーバーコート層がさらに積層されており、オーバーコート層の材料が低屈折率層の空隙を占有している割合が70体積%未満であることを特徴とする反射防止膜。
IPC (4)：
G02B 1/11
, B32B 7/02 103
, C03C 17/42
, C08J 7/00
G02B 1/10 A
, B32B 7/02 103
, C03C 17/42
, C08J 7/00
Cited by applicant (2)
-
反射防止膜及びそれを用いた画像表示装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平8-344688
Applicant：富士写真フイルム株式会社
-
防汚性低反射率ガラスおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平6-095119
Applicant：日本板硝子株式会社
Cited by examiner (2)
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反射防止膜及びそれを用いた画像表示装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平8-344688
Applicant：富士写真フイルム株式会社
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防汚性低反射率ガラスおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平6-095119
Applicant：日本板硝子株式会社
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