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J-GLOBAL ID：200903075877866985

レジスト組成物

Inventor： 尾家 正行 ,  阿部 信紀 ,  田中 秀行
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993097139
Publication number (International publication number)：1994289608
Application date： Mar. 30, 1993
Publication date： Oct. 18, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 感度、解像度、耐エッチング性、及び保存安定性などのレジスト特性に優れたレジスト材料を提供すること。【構成】 分子鎖中に、下記一般式(I)及び一般式(II)で示される構造単位を有する共重合体(A)、及び活性光線の照射により酸を生成可能な化合物(B)を含有することを特徴とするレジスト組成物。(式中、R1は、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基等、R2は、酸素原子に結合する3級の炭素原子を有する有機基である。)(式中、R3は、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、R4及びR5は、互いに同一または異なり、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、カルボキシル基、炭素数1〜5のアルキル基等、である。)

Claim (excerpt)：

分子鎖中に、下記一般式(I)及び一般式(II)で示される構造単位を有する共重合体(A)、及び活性光線の照射により酸を生成可能な化合物(B)を含有することを特徴とするレジスト組成物。【化1】(式中、R1は、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5の置換アルキル基、ハロゲン原子、またはシアノ基であり、R2は、酸素原子に結合する3級の炭素原子を有する有機基である。)【化2】(式中、R3は、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5の置換アルキル基、ハロゲン原子、またはシアノ基であり、R4及びR5は、互いに同一または異なり、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、カルボキシル基、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5の置換アルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12の置換アルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数6〜12の置換アリール基、炭素数7〜14のアラルキル基、または炭素数7〜14の置換アラルキル基である。)

IPC (5)：

G03F 7/023 501 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027