Pat

J-GLOBAL ID：200903075900337510

p-スチレンスルホン酸及びその塩の水溶性低分子量重合物の製造方法

Inventor： 新谷 孝司 ,  浜田 昭典 ,  古田 和美
Applicant, Patent owner： 東ソー株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996304607
Publication number (International publication number)：1998139816
Application date： Nov. 15, 1996
Publication date： May. 26, 1998
Summary：

【要約】【課題】 顔料分散剤、金属イオン封鎖剤、循環水系のスケール付着防止剤及び除去剤などの多くの用途分野で有用な低分子量p-スチレンスルホン酸及びその塩の重合物の製造方法を提供する。【解決手段】 p-スチレンスルホン酸及びその塩を水溶液として重合し、水溶性低分子量p-スチレンスルホン酸塩重合物を製造するに際して、重合開始剤として2,2 ́-アゾビス(2-アミジノプロパン)二塩酸塩、又は4,4 ́-アゾビス(4-シアノ吉草酸)のアルカリ金属塩を使用し、かつ連鎖移動剤として2-メルカプトエタノール、3-メルカプトプロパノール及びチオグリセロールよりなる群から選ばれた1種以上の化合物を使用し水溶性低分子量p-スチレンスルホン酸及びその塩の重合物を製造する。

Claim (excerpt)：

p-スチレンスルホン酸及びその塩を水溶液として重合し、水溶性低分子量p-スチレンスルホン酸塩重合物を製造するに際して、重合開始剤として2,2 ́-アゾビス(2-アミジノプロパン)二塩酸塩、又は4,4 ́-アゾビス(4-シアノ吉草酸)のアルカリ金属塩を使用し、かつ連鎖移動剤として2-メルカプトエタノール、3-メルカプトプロパノール及びチオグリセロールよりなる群から選ばれた1種以上の化合物を使用することを特徴とする低分子量p-スチレンスルホン酸及びその塩の水溶性低分子量重合物の製造方法。

IPC (3)：

C08F 12/30 ,  C08F 2/38 ,  C08F 4/04

FI (3)：

C08F 12/30 ,  C08F 2/38 ,  C08F 4/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭57-149308
  
• 特開昭61-126104
  
• 重合体製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-321264   Applicant：日本エクスラン工業株式会社