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J-GLOBAL ID：200903075980929090

分子導線と金属電極の接続方法および基板

Inventor：
古川 一暁

About 古川 一暁

, 
樫村 吉晃

About 樫村 吉晃

, 
江幡 啓介

About 江幡 啓介

, 
森田 雅夫

About 森田 雅夫


Applicant, Patent owner：
日本電信電話株式会社

About 日本電信電話株式会社


Agent (1)： 谷 義一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000040230
Publication number (International publication number)：2001225406
Application date： Feb. 17, 2000
Publication date： Aug. 21, 2001
Summary：
【要約】【課題】 分子スケールのデバイス製造において必要不可欠な分子導線と金属電極の接続方法、およびそれらの接続構造を含んだ基板に関し、分子導線と電極との間に十分な電気的接触をとること。【解決手段】 基板1上の所定位置に金属電極2,3を形成する(a)。単一分子または複数個の分子の集合からなる分子導線4を金属電極2,3近傍または跨るように配置する(b)。金属電極2,3と分子導線4それぞれの少なくとも一部を導電性物質である金属メッキ7,8により接続する(c)。
Claim (excerpt)：
所定位置に金属電極を形成する第1工程と、単一分子または複数個の分子の集合からなる分子導線を前記金属電極近傍に配置する第2工程と、前記金属電極と前記分子導線それぞれの少なくとも一部を導電性物質により接続する第3工程とを含んだことを特徴とする分子導線と金属電極の接続方法。
IPC (6)：
B32B 3/00 ,  C23C 18/31 ,  C25D 7/00 ,  H01B 5/14 ,  H01L 21/288 ,  H01R 4/00
FI (6)：
B32B 3/00 ,  C23C 18/31 A ,  C25D 7/00 H ,  H01B 5/14 B ,  H01L 21/288 E ,  H01R 4/00 Z
F-Term (44)：
4F100AB01A ,  4F100BA02 ,  4F100JG01A ,  4F100JG01B ,  4K022AA02 ,  4K022AA31 ,  4K022AA43 ,  4K022BA08 ,  4K022BA35 ,  4K022CA08 ,  4K022DA01 ,  4K024AA11 ,  4K024AA12 ,  4K024AB01 ,  4K024AB19 ,  4K024BA01 ,  4K024BB10 ,  4K024BC10 ,  4K024FA07 ,  4K024FA08 ,  4K024GA14 ,  4M104AA01 ,  4M104AA10 ,  4M104BB04 ,  4M104BB07 ,  4M104BB14 ,  4M104BB36 ,  4M104CC01 ,  4M104DD37 ,  4M104DD51 ,  4M104DD52 ,  4M104DD53 ,  4M104DD68 ,  4M104FF01 ,  4M104FF11 ,  4M104FF26 ,  4M104GG20 ,  5E085BB26 ,  5E085CC01 ,  5E085CC05 ,  5E085DD20 ,  5E085EE32 ,  5E085FF19 ,  5E085JJ03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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