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J-GLOBAL ID：200903076020790034
紫外線硬化性組成物およびこれを用いた硬化物パターンの形成方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997164602
Publication number (International publication number)：1998083080
Application date： Jun. 20, 1997
Publication date： Mar. 31, 1998
Summary：
【要約】【課題】 低い強度の紫外線による硬化が可能で、かつ耐熱性を有する硬化物を与える放射線硬化性組成物、及びこれを利用した硬化物パターン製造方法を提供する。【解決手段】 紫外線の作用により塩基を発生する特定の塩基発生物質と、この塩基の作用で縮合しシロキサン結合を形成するシロキサン基含有シリコーン重合体分子からなる硬化性組成物。この組成物に紫外線を照射して硬化させる。この紫外線照射時に上記組成物の被膜と放射線源の間にマスクを置き、未硬化の組成物を溶解除去してパターンを形成し、この残存部分を加熱し、パターン硬化物を製造する。
Claim (excerpt)：
(イ)紫外線の作用により塩基を発生する塩基発生物質と、(ロ)この塩基の作用で脱水縮合するシラノール基(Si-OH)とを含有するシロキサン組成物であって、(イ)の塩基発生物質がN-置換4-(o-ニトロフェニル)ジヒドロピリジン類から選ばれたものであり、これが前記組成物の全重量に対し、0.01〜20%の範囲で含まれ、(ロ)の重合体分子の平均組成が下記の一般式で示される、ことを特徴とする紫外線硬化性組成物。 (R2 SiO2/2)a (RSiO3/2)1-a (1)(式中、aは0以上で、0.5以下の数、R2 SiO2/2 およびRSiO3/2 中のRは独立に少なくとも1個の酸素、窒素、塩素、ケイ素、フッ素から選ばれる原子を含んでもよい炭素数1から8の飽和又は不飽和の炭化水素基から選ばれるモノラジカルである。R2 SiO2/2 のケイ素原子に結合している2価の酸素原子のうち少なくとも1つは、他のケイ素に結合してシロキサン結合を形成しているが、残りの酸素原子は他のケイ素に結合してシロキサン結合を形成していても、メチル基あるいはエチル基に結合してアルコキシ基を形成していても、水素に結合してシラノール基を形成していてもよい。RSiO3/2 のケイ素原子に結合している2価の酸素原子のうち少なくとも1つは、他のケイ素に結合してシロキサン結合を形成しているが、残りの酸素原子は他のケイ素に結合してシロキサン結合を形成していても、メチル基あるいはエチル基に結合してアルコキシ基を形成していても、水素に結合してシラノール基を形成していてもよい。ただし、少なくとも1個のシラノール基を有しているRSiO3/2 が重合体分子中の全ケイ素の10モル%以上をしめる。
IPC (9)：
G03F 7/075 511
, C08K 5/3432
, C08L 83/06
, G03F 7/004 503
, G03F 7/038 601
, G03F 7/38 511
, G03F 7/40 501
, H01L 21/027
, H01L 21/312
G03F 7/075 511
, C08K 5/3432
, C08L 83/06
, G03F 7/004 503 B
, G03F 7/038 601
, G03F 7/38 511
, G03F 7/40 501
, H01L 21/312 C
, H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 568
, H01L 21/30 571
