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J-GLOBAL ID：200903076030999004

露光装置および露光方法

Inventor： 上田 弘治 ,  前原 広
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993216082
Publication number (International publication number)：1995066111
Application date： Aug. 31, 1993
Publication date： Mar. 10, 1995
Summary：

【要約】【目的】 露光装置および露光方法を、補正精度を向上させるとともに、パターンの位置ずれを直接検出して投影レンズの倍率を調整できるようにする。【構成】 第1の制御装置611 では、透明基板2に形成された第1の基板側検出マークと被露光体基板用保持台13に形成された第1の保持具側検出マークとの相対位置が、第1のCCDカメラ521 の出力信号より計測される。第2の制御装置612 では、第2の基板側検出マークと第2の保持具側検出マークとの相対位置が、第2のCCDカメラ522 の出力信号より計測される。第1および第2の制御装置611,612でそれぞれ計測された相対位置に基づいて投影レンズ32のレンズ倍率が計算され、計算されたレンズ倍率に応じて、投影レンズ32の倍率調整用鏡筒が第1および第2制御装置611,612によって駆動されることにより、投影レンズ32のレンズ倍率の補正が行われる。

Claim (excerpt)：

パターンが形成された被転写体を保持する被転写体保持手段と、投影レンズおよび該投影レンズの倍率調整手段を有する露光光学系と、被露光体基板を保持するとともに、少なくとも前記露光光学系の結像面と平行な方向に前記被露光体基板を移動させる被露光体基板用保持手段とを備え、前記被転写体に形成された前記パターンを前記露光光学系によって前記被露光体基板に転写する露光装置において、少なくとも一対の第1の検出マークが形成された透明基板と、前記被転写体保持手段と前記投影レンズとの間に設けられた、前記透明基板を保持する基板保持手段と、前記透明基板に照明光を照射して前記第1の検出マークを前記被露光体基板用保持手段上に結像させる照明光学系と、前記被露光体基板用保持手段の前記第1の検出マークが結像される平面上に形成された少なくとも一対の第2の検出マークと、該第2の検出マークを照射した前記照明光を受光して、該第2の検出マークと前記第1の検出マークとの相対位置を計測し、該計測された相対位置に応じて前記倍率調整手段を駆動して、前記投影レンズの倍率補正を行う制御手段とを具備することを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503

FI (2)：

H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 531 M