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J-GLOBAL ID：200903076037872727

レジスト構成材料の精製方法

Inventor： 並木 崇久 ,  矢野 映 ,  渡部 慶二 ,  五十嵐 美和 ,  倉光 庸子 ,  野崎 耕司
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994033974
Publication number (International publication number)：1995243761
Application date： Mar. 04, 1994
Publication date： Sep. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】 レジスト構成材料の精製方法に関し、効率の良い精製方法の実用化を目的とする。【構成】 レジストを構成するそれぞれの材料を凍結乾燥法を用いて粉末状態とした後、この粉末をこの材料の貧溶媒で洗浄して材料中に含まれる不純物を除去した後、乾燥することを特徴としてレジスト構成材料の精製方法を構成する。

Claim (excerpt)：

レジストを構成するそれぞれの材料を粉末状態とした後、該材料の貧溶媒で洗浄して該材料中に含まれる不純物を除去した後、乾燥することを特徴とするレジスト構成材料の精製方法。

IPC (4)：

F26B 5/06 ,  B01D 11/00 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027