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J-GLOBAL ID：200903076092870814

X線露光装置

Inventor： 荒木 聖
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 滝本 智之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996086173
Publication number (International publication number)：1997283399
Application date： Apr. 09, 1996
Publication date： Oct. 31, 1997
Summary：

【要約】【課題】 X線マスクで転写されるLSIパターンとウェハ上にすでに転写されているLSIパターンとの重ねあわせ精度を、チップサイズが大きくなっても向上させるX線露光装置を提供する。【解決手段】 X線露光装置が、複数のX線マスクを同時に装着できるマスクステージ機構13と、マスクステージ13に装着された複数のX線マスクの位置関係を所定の重ねあわせ精度でアライメントを行う機構と、マスクステージが所定の範囲にわたって駆動可能な移動機構と、複数のマスクステージに装着されたX線マスクが実質同一の位置になるよう駆動できる移動機構とを有している。このX線露光装置によりひとつのチップを小さな複数のX線マスクにより転写させる。

Claim (excerpt)：

複数のX線マスクを同時に装着できるマスクステージ機構と、前記マスクステージに装着された前記複数のX線マスクの位置関係を所定の重ねあわせ精度でアライメントを行う機構と、前記マスクステージが所定の範囲にわたって駆動可能な移動機構と、前記複数のマスクステージに装着されたX線マスクが実質同一の位置になるよう駆動できる移動機構とを有することを特徴とするX線露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/02

FI (5)：

H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/02 X ,  H01L 21/30 531 J