Pat

J-GLOBAL ID：200903076120732910

非線形光学材料及びその製造方法、並びに非線形光学素子

Inventor： 上坂 友純 ,  山口 康浩
Applicant, Patent owner： 富士ゼロックス株式会社
Agent (4)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002352107
Publication number (International publication number)：2004184728
Application date： Dec. 04, 2002
Publication date： Jul. 02, 2004
Summary：

【課題】導波路型の非線形光学材料であって、下部クラッド層に導電性ポリマーを用いることなく有効にポーリングを行うことができ、電気光学効果が大きく、しかも安定性に優れる非線形光学材料、及びその製造方法、並びに上記非線形光学材料を用いた非線形光学素子を得ることである。【解決手段】下部電極表面に、少なくとも下部クラッド層、コア層をこの順に形成した積層膜に対し、ポーリング処理を施すことにより前記コア層に非線形光学特性を付与して得られる非線形光学材料であって、前記下部クラッド層が、正孔輸送性あるいは電子輸送性を有することを特徴とする非線形光学材料である。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

下部電極表面に、少なくとも下部クラッド層、コア層をこの順に形成した積層膜に対し、ポーリング処理を施すことにより前記コア層に非線形光学特性を付与して得られる非線形光学材料であって、前記下部クラッド層が、正孔輸送性あるいは電子輸送性を有することを特徴とする非線形光学材料。

IPC (2)：

G02F1/365 ,  G02F1/361

FI (2)：

G02F1/365 ,  G02F1/361

F-Term (8)：

2K002AA01 ,  2K002AA02 ,  2K002BA06 ,  2K002CA06 ,  2K002DA05 ,  2K002FA08 ,  2K002FA27 ,  2K002HA13