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J-GLOBAL ID：200903076205180810

光加工装置

Inventor： 山崎 舜平 ,  間瀬 晃 ,  坂寄 寛幸
Applicant, Patent owner： 株式会社半導体エネルギー研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992316043
Publication number (International publication number)：1993206558
Application date： Aug. 08, 1986
Publication date： Aug. 13, 1993
Summary：

【要約】【構成】400nm以下の波長のパルスレーザ光を大面積化するビームエキスパンダと、前記大面積化されたパルスレーザ光を直線状断面を有するパルス光とするシリンドリカルレンズと、前記直線状断面を有するパルス光と平行な直線状パターンを有するマスクとを有する光加工装置。

Claim (excerpt)：

400nm以下の波長のパルスレーザ光を大面積化するビームエキスパンダと、前記大面積化されたパルスレーザ光を直線状断面を有するパルス光とするシリンドリカルレンズと、前記直線状断面を有するパルス光と平行な直線状パターンを有するマスクとを有することを特徴とする光加工装置。

IPC (3)：

H01S 3/10 ,  H01L 21/302 ,  H01L 31/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-042127
  
• 特開昭63-042127