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J-GLOBAL ID：200903076206722993
複合被覆電線の製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
三好 秀和 (外8名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996013159
Publication number (International publication number)：1997204832
Application date： Jan. 29, 1996
Publication date： Aug. 05, 1997
Summary：
【要約】【課題】 プラズマCVDによる処理により膜厚を大きくすることなくピンホールのない絶縁特性に優れた複合被覆電線の製造方法を提供すること。【解決手段】 エナメル電線11の電線温度を200°C以下とし、シラン誘導体を原料ガスとするプラズマCVDによりエナメル電線に薄膜を形成した。
Claim (excerpt)：
シラン誘導体を原料ガスとするプラズマ化学蒸着によりエナメル電線に薄膜を形成する方法であって、前記エナメル電線の電線温度を200°C以下とすることを特徴とする複合被覆電線の製造方法。
IPC (2)：
FI (2)：
H01B 13/16 G
, C23C 16/54
