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J-GLOBAL ID:200903076227924693

重合体および反射防止膜形成組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 渡邉 一平 ,  木川 幸治 ,  樋口 武
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003178719
Publication number (International publication number):2005015532
Application date: Jun. 23, 2003
Publication date: Jan. 20, 2005
Summary:
【課題】反射防止効果が高く、インターミキシングを生じることがなく、解像度、パターン形状等に優れたレジストパターンを形成しうる反射防止膜形成組成物、および反射防止膜形成組成物の構成成分として有用な重合体を提供する。【解決手段】下記式(1)で表される第一の構造単位と、架橋特性を有する第二の構造単位と、を有している重合体である。【化1】〔式(1)において、R1およびR2は相互に独立に1価の原子または1価の有機基を示す。R3およびR4は水素原子または1価の有機基を示し、mおよびnは0または1〜3の整数である。〕【選択図】 なし
Claim (excerpt):
下記式(1)で表される第一の構造単位と、架橋特性を有する第二の構造単位と、を有していることを特徴とする重合体。
IPC (10):
C08F232/08 ,  C08F220/28 ,  C08F220/58 ,  C08K5/00 ,  C08L33/14 ,  C08L33/24 ,  C08L45/00 ,  G02B1/11 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027
FI (10):
C08F232/08 ,  C08F220/28 ,  C08F220/58 ,  C08K5/00 ,  C08L33/14 ,  C08L33/24 ,  C08L45/00 ,  G03F7/11 503 ,  H01L21/30 574 ,  G02B1/10 A
F-Term (28):
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025DA34 ,  2K009AA02 ,  2K009BB01 ,  2K009CC21 ,  2K009FF01 ,  4J002BG071 ,  4J002BG131 ,  4J002CE001 ,  4J002EQ036 ,  4J002EV216 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002GQ00 ,  4J002HA01 ,  4J100AL09Q ,  4J100AL10Q ,  4J100AM17Q ,  4J100AR02P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA64 ,  4J100JA01 ,  4J100JA03 ,  5F046PA07
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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