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J-GLOBAL ID：200903076231263430

研磨液

Inventor： 宮嶋 基守 ,  市橋 康之
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 北野 好人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991226319
Publication number (International publication number)：1993067600
Application date： Sep. 06, 1991
Publication date： Mar. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】本発明は、素子分離溝内に残すように多結晶シリコンを研磨するのに適した研磨液に関し、多結晶シリコンを研磨しても研磨残であるポリ突起が発生しないような研磨液を提供することを目的とする。【構成】有機化合物を溶解したアルカリ溶液と砥粒とを含む研磨液において、無機化合物を溶解したアルカリ溶液の陽イオンが添加され、pHが12.5以下であるように構成する。

Claim (excerpt)：

有機化合物を溶解したアルカリ溶液と砥粒とを含む研磨液において、無機化合物を溶解したアルカリ溶液の陽イオンが添加され、pHが12.5以下であることを特徴とする研磨液。

IPC (3)：

H01L 21/304 321 ,  C09K 3/14 ,  C09K 13/02