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J-GLOBAL ID：200903076284489405

電子工業用薬品中の微粒子除去方法

Inventor： 森川 正男 ,  時田 哲夫
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998178674
Publication number (International publication number)：2000005546
Application date： Jun. 25, 1998
Publication date： Jan. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】 マイクロバブルの生成を抑制することにより効率的に微粒子の除去ができる電子工業用薬品中の微粒子の除去方法を提供する。【解決手段】 フィルターによる電子工業用薬品中の微粒子の除去方法において、あらかじめ電子工業用薬品の温度を下げた後にフィルターでろ過することを特徴とする電子工業用薬品中の微粒子除去方法。

Claim (excerpt)：

フィルターによる電子工業用薬品中の微粒子の除去方法において、あらかじめ電子工業用薬品の温度を下げた後にフィルターでろ過することを特徴とする電子工業用薬品中の微粒子除去方法。

IPC (3)：

B01D 53/22 ,  B01D 37/00 ,  B01D 71/32

FI (3)：

B01D 53/22 ,  B01D 37/00 ,  B01D 71/32

F-Term (17)：

4D006GA07 ,  4D006HA95 ,  4D006JA25C ,  4D006KA02 ,  4D006KA15 ,  4D006KA64 ,  4D006KB30 ,  4D006KE13P ,  4D006KE16Q ,  4D006KE16R ,  4D006LA06 ,  4D006MC28 ,  4D006MC30 ,  4D006PB20 ,  4D006PC01 ,  4D066BB20 ,  4D066EA09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭63-028417