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J-GLOBAL ID:200903076292628511

転写工程におけるマスクの位置合わせ方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 廣江 武典
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993122724
Publication number (International publication number):1994333797
Application date: May. 25, 1993
Publication date: Dec. 02, 1994
Summary:
【要約】【目的】 マスクの位置ずれを容易且つ正確に補正することができる転写工程におけるマスクの位置合わせ方法を、簡単な手段によって提供すること。【構成】 マスクに形成されたパターンを基材に転写する転写工程におけるマスクの位置合わせ方法であって、基材とマスクとの各々にアライメントマーク60a、60bを備えると共に、各アライメントマーク60a、60bを、互いに重ね合わせることにより各々の外形の間に隙間61を形成する形状とし、隙間61を検出することによりマスクの位置ずれを補正した。
Claim (excerpt):
マスクに形成されたパターンを基材に転写する転写工程における前記マスクの位置合わせ方法であって、基材とマスクとの各々にアライメントマークを備えると共に、これら各アライメントマークを、互いに重ね合わせることにより各々の外形の間に隙間を形成する形状とし、前記隙間を検出することによりマスクの位置ずれを補正することを特徴とする転写工程におけるマスクの位置合わせ方法。
IPC (2):
H01L 21/027 ,  G03F 1/08
FI (2):
H01L 21/30 311 B ,  H01L 21/30 301 M
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開平2-046458
  • 特開昭57-088728
  • 特開平2-046458
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