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J-GLOBAL ID:200903076321454200

高周波帯位相校正信号発生方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999101594
Publication number (International publication number):2000261313
Application date: Mar. 04, 1999
Publication date: Sep. 22, 2000
Summary:
【要約】【課題】 RF帯位相校正信号振幅・安定等による使用可能上限をなくし、且つ高周波VLBIが期待できる高周波帯位相校正信号発生方法を提供する。【解決手段】 位相校正信号を生成する為の基準信号を分割し、基準信号からパルス列(コム)発生器で位相校正信号ほベースバンド帯域で生成すると同時に、基準信号から周波数変換用のローカル周波数信号を位相同期発振器により発生させ、位相校正信号を周波数変換用のローカル周波数信号でコンバートすることにより、高周波帯の位相校正信号を作製する。
Claim (excerpt):
位相校正信号を生成する為の基準信号を分割し、基準信号からパルス列(コム)発生器で位相校正信号をベースバンド帯域で生成すると同時に、基準信号から周波数変換用のローカル周波数信号を位相同期発振器により発生させ、位相校正信号を周波数変換用のローカル周波数信号でアップコンバートすることにより、高周波帯の位相校正信号を作製することを特徴とする高周波帯位相校正信号発生方法。
IPC (2):
H03L 7/00 ,  G01R 31/00
FI (2):
H03L 7/00 A ,  G01R 31/00
F-Term (13):
2G036AA05 ,  2G036AA06 ,  2G036BA13 ,  2G036BA30 ,  2G036BB17 ,  2G036BB20 ,  2G036CA12 ,  5J106AA03 ,  5J106BB05 ,  5J106CC15 ,  5J106CC55 ,  5J106DD05 ,  5J106KK02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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