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J-GLOBAL ID：200903076324784057

レーザービーム照射の均一性を向上する方法

Inventor： 成 序三
Applicant, Patent owner： 成 序三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997159105
Publication number (International publication number)：1998314970
Application date： May. 14, 1997
Publication date： Dec. 02, 1998
Summary：

【要約】【課題】 線条形ビームホモジナイザーを用いてレーザーを加工面に照射する際に、ビーム長軸方向の強度分布の不均一性を克服して、高度な均一照射結果を得られる。【解決手段】 線条形レーザービームを照射する際に、短軸方向のスキャンを行う同時に長軸方向にもビームを小刻みに往復移動させることによる平滑効果で、被加工物への照射の均一性を向上させる。

Claim (excerpt)：

レーザービームを用いて表面改質等を行う場合に、ホモジナイザーを通して成形した線条形レーザービームを被加工物に照射する際に、線条ビーム短軸方向にレーザービームのスキャンを行うと同時に、照射の光量分布の均一性を向上する為、ビーム長軸方向にもビームを小刻みに往復に振らす、又は、被加工物を小刻みに往復に移動する照射方法。

IPC (4)：

B23K 26/04 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/08

FI (6)：

B23K 26/04 Z ,  B23K 26/00 E ,  B23K 26/00 N ,  B23K 26/06 C ,  B23K 26/06 E ,  B23K 26/08 B