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J-GLOBAL ID:200903076372939020
毛髪化粧料
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
有賀 三幸 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993284907
Publication number (International publication number):1995138132
Application date: Nov. 15, 1993
Publication date: May. 30, 1995
Summary:
【要約】【構成】 次の成分(a)及び(b):(a)ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、ポリエーテル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン及びアルキル変性シリコーンから選ばれる不揮発性シリコーン類(b)チオール類、スルフィド類及びジスルフィド類から選ばれる含硫化合物を含有する毛髪化粧料並びに、これに更に、オクチルメトキシシンナメート、ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体、パラアミノ安息香酸類及びベンゾイルメタン類から選ばれる紫外線吸収剤を含有した毛髪化粧料。【効果】 紫外線による毛髪の損傷、色調の変化などのダメージを抑え、優れたヘアケア効果を有するものであり、しかも感触が良好で、安定性及び安全性にも優れている。
Claim (excerpt):
次の成分(a)及び(b):(a)ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、ポリエーテル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン及びアルキル変性シリコーンから選ばれる不揮発性シリコーン類(b)チオール類、スルフィド類及びジスルフィド類から選ばれる含硫化合物を含有する毛髪化粧料。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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特開昭63-188618
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特開平2-255608
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特開平4-154714
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人毛用還元剤及び人毛用化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-216413
Applicant:株式会社資生堂
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毛髪処理剤組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-090721
Applicant:花王株式会社
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特開平3-153617
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