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J-GLOBAL ID:200903076387259360

アニオン性銀錯イオン含有ハイドロタルサイト類化合物及び抗菌剤

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高島 一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995340912
Publication number (International publication number):1997175819
Application date: Dec. 27, 1995
Publication date: Jul. 08, 1997
Summary:
【要約】【解決手段】 式(I)〔M2+1-x N3+x (OH)2 x+Ay-x/y ・mH2 O〔式中、M2+は2価の陽イオン、N3+は3価の陽イオン、Ay-は陰イオンを示し、0.2≦x≦0.33、y≧1、m>0である〕で表されるハイドロタルサイト類化合物の層間に、アニオン性銀錯イオンを担持してなるアニオン性銀錯イオン含有ハイドロタルサイト類化合物。当該アニオン性銀錯イオン含有ハイドロタルサイト類化合物を有効成分として含有してなる抗菌剤。【効果】 本発明のアニオン性銀錯イオン含有ハイドロタルサイト類化合物及びこれを有効成分として含有する抗菌剤は、銀吸着性が高いため製造工程が単純化できかつ廉価であり、水溶液中での銀イオンの溶出が少なく安全性に優れ、かつ抗菌性、耐熱性、白色度に優れる。また、層構造中に亜鉛、銅を含有する場合も、銀イオンとともに亜鉛、銅イオンの溶出が少なく安全である。
Claim (excerpt):
式(I)〔M2+1-x N3+x (OH)2 x+Ay-x/y ・mH2 O〔式中、M2+は2価の陽イオン、N3+は3価の陽イオン、Ay-は陰イオンを示し、0.2≦x≦0.33、y≧1、m>0である〕で表されるハイドロタルサイト類化合物の層間に、アニオン性銀錯イオンを担持してなるアニオン性銀錯イオン含有ハイドロタルサイト類化合物。
IPC (4):
C01F 7/00 ,  A01N 59/16 ,  C01G 9/02 ,  C01G 23/04
FI (4):
C01F 7/00 C ,  A01N 59/16 A ,  C01G 9/02 Z ,  C01G 23/04 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
  • 滅菌方法およびその装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-153965   Applicant:武田薬品工業株式会社
  • 特公昭52-003353
  • 特開平4-124101
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Article cited by the Patent:
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