レジストパターン形成方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：京本直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996014064
Publication number (International publication number)：1997213603
Application date： Jan. 30, 1996
Publication date： Aug. 15, 1997
Summary：

【要約】【課題】本発明は、レジストパターンを形成する上で、レジストを膨潤させることによってパターンの微細化を行うことを目的としている。【解決手段】レジストパターンを基板上に形成する方法において、基板上にレジストを塗布する工程と、レジストを露光する工程と、レジストを現像する工程と、レジストを有機アミンと結合させる工程とを有する。本発明によれば、レジスト形状劣化を起こすことなく、またパターン密度に依存しないように、パターンの微細化を図ることができる。

Claim (excerpt)：

基板上にレジストを塗布する工程と、レジストを露光する工程と、レジストを現像する工程と、レジストを有機アミンと結合させる工程とを有するレジストパターン形成方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 505 , G03F 7/40

FI (3)：

H01L 21/30 570 , G03F 7/20 505 , G03F 7/40

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-041580 Applicant：株式会社日立製作所

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