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J-GLOBAL ID：200903076432007830

X線複合分析装置

Inventor： 尾形 潔 ,  河野 真貴子 ,  中野 朝雄 ,  末永 和史
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 薄田 利幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992186714
Publication number (International publication number)：1993188019
Application date： Jul. 14, 1992
Publication date： Jul. 27, 1993
Summary：

【要約】【目的】同一測定容器内においてX線をプローブとして試料のX線回折、蛍光X線分析及び蛍光EXAFSの測定を行い、薄膜及び薄膜表面・界面等の同一個所を総合的に解析することのができるX線複合分析装置を提供する。【構成】モノクロメータを通り、スリット2でビーム成形され入射X線検出器3で強度測定された入射X線1ビームを試料5に全反射臨界角以下の微小入射角で入射させ、試料の蛍光X線収量等のエネルギー依存性及びX線回折を同一測定容器内で測定する。試料台4は試料表面に平行なX軸、試料表面に垂直なY、Z軸の3方向に移動機構を持ち、Y軸、Z軸はそれぞれ回転機構を持っている。試料5から発生する蛍光は、それぞれに対応した検出器、例えば12、7、8で測定する。試料移動機構及びX線検出系はコンピュータにより制御し、測定容器外から遠隔操作する。

Claim (excerpt)：

少なくとも任意の方向に移動可能な試料台と、この試料台上に載置された被測定試料とを収納した測定容器と、前記測定容器内の試料に所定の入射角度で入射X線を照射する手段と、前記試料から放出されるX線情報を所定の検出器で計測する手段とを備えて成るX線分析装置であって、同一測定容器内に収納された前記試料から放出されるX線情報を、少なくとも回折X線検出器、蛍光X線検出器及び反射X線検出器で計測する手段と、X線源からのX線をモノクロメータ及び入射X線検出器に順次入射させ、かかる入射X線を前記試料に所定の角度で照射する手段と、前記入射X線と試料との位置関係を前記計測手段における各検出器の種類に応じて自動的に制御する機構とを具備して成るX線複合分析装置。