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J-GLOBAL ID：200903076449731699
ユニ-クな粒度分布を有するエラストマ-分散液
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
生沼 徳二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998352690
Publication number (International publication number)：1999292970
Application date： Dec. 11, 1998
Publication date： Oct. 26, 1999
Summary：
【要約】 (修正有)【解決手段】線状アルケニル官能化ポリオルガノシロキサンとMHQ樹脂とのヒドロシリル化付加生成物及び低分子量シリコーンを含んでなる組成物。【効果】流動誘起剪断を誘起する新規粒度減少プロセスに付すと、ユニークな粒度分布のため塗布性及び質の改善されたパーソナルケア配合物用成分を与える。
Claim (excerpt)：
下記成分(A)及び(B):(A)(1)次式:MviaDxDviyM2-a[式中、符号xは500を上回る数であり、a+yが1〜約20の範囲内にあるという限定条件の下で、符号yは0〜約20の数であり、符号aは0〜2の数であり、MviはR1R2R3SiO1/2(R1は炭素原子数2〜10の一価不飽和炭化水素基であり、R2及びR3は各々独立に炭素原子数1〜40の一価炭化水素基である)として定義され、DはR4R5SiO2/2(R4及びR5は各々独立に炭素原子数1〜40の一価炭化水素基である)として定義され、DviはR6R7SiO2/2(R6は炭素原子数2〜10の一価不飽和炭化水素基であり、R7は独立に炭素原子数1〜40の一価炭化水素基である)として定義され、MはR8R9R10SiO1/2(R8、R9及びR10は各々独立に炭素原子数1〜40の一価炭化水素基である)として定義される]の線状アルケニル停止ポリオルガノシロキサンと(2)次式:(MHwQz)j[式中、Qは式SiO4/2 を有するものであり、MHはHbR113-bSiO1/2(R11は炭素原子数1〜40の一価炭化水素基であり、符号bは1〜3の数である)として定義され、符号wとzの比は0.5〜4.0であり、符号jは約2.0〜約100の数である]の樹脂とのヒドロシリル化生成物によって形成されるシリコーンであって、該ヒドロシリル化が(3)25°Cで約1000センチストークス未満の粘度を有する第一のシリコーンの存在下で実施され、もってASTM D-2240-91によるデュロメーター硬度が5以上のゲルを形成するもの、及び(B)25°Cで約1000センチストークス未満の粘度を有する第二のシリコーンを含んでなるシリコーン組成物であって、上記ゲルを上記第二のシリコーン中に懸濁してその第二のシリコーンとともに混合処理に付し、もって上記第二のシリコーンと上記ゲルを含んでなる25°Cにおいて500〜150000センチストークスの粘度を有する均一液体を生じさせ、該均一液体が上記ゲルの初期平均粒度及び粒度分布を有しており、a)上記均一液体を圧力に付し、b)上記均一液体をオリフィスを通しての圧力降下に付し、もって均一液体がオリフィスを通過して均一液体の初期平均粒度が低下し、かつc)段階a)と段階b)を繰返すことにより、上記ゲルの粒度分布を調節して該粒度分布がd)約21〜約26ミクロンの範囲内の極大、e)約33〜約38ミクロンの範囲内の極大、及びf)約50〜約60ミクロンの範囲内の極大を含むようにした、上記シリコーン組成物。
IPC (4)：
C08G 77/04
, A61K 7/00
, C08L 83/04
, C09K 3/00 103
C08G 77/04
, A61K 7/00 J
, C08L 83/04
, C09K 3/00 103 G
