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J-GLOBAL ID：200903076461217550

特定ガスの充填濃度調節器

Inventor：
高野 和潔

About 高野 和潔


Applicant, Patent owner：
山陽電子工業株式会社

About 山陽電子工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001231753
Publication number (International publication number)：2003044146
Application date： Jul. 31, 2001
Publication date： Feb. 14, 2003
Summary：
【要約】【課題】 被ガス充填容器130内の混合ガスをガス分離部105で分離して回収する場合に、分離しきれなかった特定ガスが多少あっても、そのガスを大気中に漏出することなく回収し、一旦回収した特定ガスや希釈ガスを混合して再び被ガス充填容器に充填する過程において、その混合したガスの濃度や圧力を所望の値に調節して充填できるようにする。【解決手段】 各ガスを供給するガス供給部101と、これらのガスを分離するガス分離部105と、被ガス充填容器130とを配管で接続し、該ガス分離部で分離したガスを適宜選択して被ガス充填容器に配管で接続し、分離したガスを被ガス充填容器に戻し入れられるようにし、これらの機器の間にガスを循環させて被ガス充填容器内の圧力及びガス濃度を測定しながら、これらの各ガスの戻し入れ量を制御して、被ガス充填容器内の圧力及びガス濃度を所望の値に調節できるようにする。
Claim (excerpt)：
特定ガスと希釈ガスとを供給するガス供給部と、この特定ガスと希釈ガスとを分離するガス分離部と、被ガス充填容器とガス供給部及びガス分離部とを接続する配管とで構成することを特徴とする特定ガスの充填濃度調節器
IPC (2)：
G05D 21/00 ,  F17C 5/06
FI (2)：
G05D 21/00 A ,  F17C 5/06
F-Term (14)：
3E072DA05 ,  3E072DB03 ,  5H309AA02 ,  5H309BB20 ,  5H309CC04 ,  5H309CC06 ,  5H309DD04 ,  5H309DD12 ,  5H309EE04 ,  5H309EE05 ,  5H309FF03 ,  5H309FF20 ,  5H309GG03 ,  5H309JJ02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • SF6ガス回収装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-330813   Applicant：山陽電子工業株式会社
  • SF6ガス回収装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-010143   Applicant：山陽電子工業株式会社

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