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J-GLOBAL ID：200903076532368172

洗浄剤組成物およびそれを含有する化粧料

Inventor： 中島 徹 ,  福田 元 ,  渡辺 美広 ,  大月 直美 ,  林 成晃 ,  徳山 浩史
Applicant, Patent owner： 日澱化學株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997110204
Publication number (International publication number)：1998287897
Application date： Apr. 11, 1997
Publication date： Oct. 27, 1998
Summary：

【要約】【課題】化粧品などの分野では近年、低刺激の素材が求められ、天然素材をベースに開発されるものが多くなってきている。本発明では人体に対して低刺激で泡立ちがよく、さらに、洗浄時の泡切れのよい洗浄剤を含む化粧料を提供することを目的とした。【解決手段】本発明のアルケニルコハク酸糖エステル塩、アルキルグリコシドおよびカチオン化ポリマーを含有する洗浄剤組成物は泡質のリッチ感はそのままではあるが、洗浄後の泡切れがよく残り感も少ない。また、刺激性も低いものができる。この洗浄剤を用いた化粧料は、上記の性質を保持したままである。

Claim (excerpt)：

アルケニルコハク酸糖エステル塩およびアルキルグルコシドを含有する洗浄剤組成物。

IPC (10)：

C11D 7/60 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 3/22 ,  C11D 3/26 ,  C11D 3/37 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7:26 ,  C11D 7:32

FI (8)：

C11D 7/60 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 3/22 ,  C11D 3/26 ,  C11D 3/37 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32