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J-GLOBAL ID：200903076565779046

洗浄剤組成物

Inventor： 松下由紀子 ,  栗田信行 ,  春沢文則
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993086717
Publication number (International publication number)：1994271898
Application date： Mar. 22, 1993
Publication date： Sep. 27, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】洗浄力及び起泡力が良好で毛髪及び皮膚に対する刺激が低く、さらには、基剤を調製する上で必要な適度な粘性を有する洗浄剤組成物を提供する。【構成】(nは2〜20)のN-ポリオキシエチレン脂肪酸アミドエーテル硫酸塩型陰イオン界面活性剤(A)と、のヒドロキシスルホベタイン型両性界面活性剤(B)とを含有する洗浄剤組成物。また、(nは1以上の整数)の糖エーテル型非イオン界面活性剤(C)を含有する洗浄剤組成物。(式中、R,R1はアルキル基、アルケニル基、R2,R3はアルキル基、R5,R6はH、アルキル基またはアルケニル基、Mはアンモニウム等、R4は二糖類または三糖類に属する糖からn個の水酸基を除いた残基)

Claim (excerpt)：

一般式(1)【化1】(式中、Rは炭素数7〜21のアルキル基またはアルケニル基、nは2〜20、Mはアンモニウム、アルカリ金属、アルカリ土類金属、または、有機アミン類である。)で表されるN-ポリオキシエチレン脂肪酸アミドエーテル硫酸塩型陰イオン界面活性剤(A)と、一般式(2)【化2】(式中、R1 は炭素数8〜22のアルキル基またはアルケニル基、R2 ,R3 は炭素数1〜2のアルキル基である。)で表されるヒドロキシスルホベタイン型両性界面活性剤(B)とを、含有比(A):(B)=99:1〜1:1にて、また、洗浄剤組成物全量に対して10〜50重量%含有することを特徴とする洗浄剤組成物。

IPC (6)：

C11D 1/94 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1:29 ,  C11D 1:92 ,  C11D 1:68