Pat

J-GLOBAL ID：200903076592916250

感放射線組成物

Inventor： 榊原 利明 ,  中野 浩二 ,  ▲高▼田 芳宏 ,  寺本 正史
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000011293
Publication number (International publication number)：2000292915
Application date： Jan. 20, 2000
Publication date： Oct. 20, 2000
Summary：

【要約】【課題】 半導体集積回路作製用のレジストにおいて、不溶性微粒子、気泡の混入をなくすことにより、優れたレジスト組成物を得る。【解決手段】 塗膜形成樹脂、光酸発生剤及び溶媒を含有する感放射線組成物において、該感放射線組成物にさらにアルコールを塗膜形成樹脂に対して2重量%以下含有させる。

Claim (excerpt)：

塗膜形成樹脂、光酸発生剤、アルコール及び溶媒を含有する感放射線組成物であって、該アルコールの含有量が塗膜形成樹脂に対して2重量%以下であることを特徴とする感放射線組成物。

IPC (5)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-185812   Applicant：信越化学工業株式会社
• 感光性樹脂組成物及びプリント配線板の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-184640   Applicant：太陽インキ製造株式会社
• カラーレジスト用着色ペースト
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-140352   Applicant：積水化学工業株式会社, 積水フアインケミカル株式会社
• 特開平4-138461
  
• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-301054   Applicant：日本ゼオン株式会社