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J-GLOBAL ID：200903076627873397

微細なタングステン系炭化物粉末の製造法

Inventor： 土井 博司 ,  森田 進 ,  篠原 耕治 ,  植田 文洋 ,  棚瀬 照義 ,  小林 勝己
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社 ,  日本新金属株式会社
Agent (1)： 富田 和夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991343963
Publication number (International publication number)：1993147917
Application date： Dec. 02, 1991
Publication date： Jun. 15, 1993
Summary：

【要約】【目的】 WC基超硬合金の製造に原料粉末として用いられる平均粒径で0.5μm以下の微細なW系炭化物粉末を製造する。【構成】 W系炭化物粉末を、重量%で、平均粒径:2μm以下のV,Cr,Ta、およびTiの炭化物粉末および酸化物粉末のうちの1種または2種以上からなる炭・酸化物粉末:0.1〜2%、平均粒径:0.5μm以下の炭素粉末:12〜30%、平均粒径:1μm以下のW酸化物粉末:残り、の配合組成を有する混合粉末に、H2 とN2 またはArの混合雰囲気中、1000〜1600°Cの温度での還元炭化処理を施すことにより製造する。

Claim (excerpt)：

原料粉末として、平均粒径:1μm以下のタングステン酸化物粉末、同0.5μm以下の炭素粉末、並びに同2μm以下のV,Cr,Ta、およびTiの炭化物粉末および酸化物粉末のうちの1種または2種以上からなる炭・酸化物粉末を用い、これら原料粉末を、重量%で、炭・酸化物粉末:0.1〜2%、炭素粉末:12〜30%、タングステン酸化物粉末:残り、の配合組成に配合し、混合した後、この混合粉末に、水素と、窒素およびアルゴンのいずれか、または両方との混合雰囲気中、1000〜1600°Cの温度で還元炭化処理を施すこと、を特徴とする平均粒径で0.5μm以下の微細なタングステン系炭化物粉末の製造法。

IPC (2)：

C01B 31/34 ,  C22C 29/08