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J-GLOBAL ID：200903076669473801

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 佐々木 知也 ,  水谷 一良 ,  漢那 慎一
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002149405
Publication number (International publication number)：2003345018
Application date： May. 23, 2002
Publication date： Dec. 03, 2003
Summary：

【要約】【課題】 160nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ高感度、高解像で塗布性に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)特定構造の少なくとも1種の繰り返し単位と、側鎖に少なくとも1つのフッ素原子を有し、且つ酸の作用により分解する基を有する少なくとも1種の繰り返し単位とを有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物含有するポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(1)で表される少なくとも1種の繰り返し単位と、側鎖に少なくとも1つのフッ素原子を有し、且つ酸の作用により分解する基を有する少なくとも1種の繰り返し単位とを有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】一般式(1)中、Ra1〜Ra3は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Ra4は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を表す。

IPC (8)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F216/14 ,  C08F218/00 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F232/08 ,  H01L 21/027

FI (8)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F216/14 ,  C08F218/00 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F232/08 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (40)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07Q ,  4J100AE06P ,  4J100AE09P ,  4J100AH02Q ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AR11Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03R ,  4J100BA15Q ,  4J100BA22Q ,  4J100BA22R ,  4J100BB17P ,  4J100BB18Q ,  4J100BB18R ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38