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J-GLOBAL ID：200903076685962545

ニフエジピン含有固形製剤の製造方法

Inventor： 小久保 宏恭 ,  西山 裕一 ,  武藤 泰明
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 山本 亮一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991331143
Publication number (International publication number)：1993139973
Application date： Nov. 20, 1991
Publication date： Jun. 08, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】本発明はニフェジピン含有量が高く、かつ放出速度の速いニフェジピン含有固形製剤を効率よく製造する方法を提供する。【構成】このニフェジピン含有固形製剤の製造方法は、ニフェジピン1重量部とヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ポリビニルピロリドンまたはこれらの2種以上の混合物 1.5〜6重量部とを有機溶剤に溶解し、この溶液をデンプン、セルロースまたはこれらの混合物1〜15重量部と軽質無水ケイ酸、含水二酸化ケイ素またはこれらの混合物2〜6重量部とからなる賦型剤に吸収させ、造粒するものである。

Claim (excerpt)：

ニフェジピン1重量部とヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ポリビニルピロリドンまたはこれらの2種以上の混合物 1.5〜6重量部とを有機溶剤に溶解し、この溶液をデンプン、セルロースまたはこれらの混合物1〜15重量部と軽質無水ケイ酸、含水二酸化ケイ素またはこれらの混合物2〜6重量部とからなる賦型剤に吸収させ、造粒することを特徴とするニフェジピン含有固形製剤の製造方法。

IPC (5)：

A61K 31/455 ,  A61K 9/14 ,  A61K 9/20 ,  A61K 47/32 ,  A61K 47/38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-206039
  
• 特開昭63-112519
  
• 特開昭56-068619