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J-GLOBAL ID：200903076695729180

光導波路素子およびその製造方法

Inventor： 岡庭 香
Applicant, Patent owner： ヘキストジャパン株式会社
Agent (1)： 湯浅 恭三 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994328729
Publication number (International publication number)：1996184718
Application date： Dec. 28, 1994
Publication date： Jul. 16, 1996
Summary：

【要約】【構成】 光導波路素子の導波層、クラッド層、接着性増強層の材料として特定の含フッ素ポリイミドを使用する。【効果】 石英系導波路ではできない光導波路素子作製プロセスの簡単化、低コスト化、フレキシブル化を図ることができ、従来のプラスチック系導波路では達成できなかった単一モード性、1.3ミクロン帯の低損失化、高耐湿性化が可能である。

Claim (excerpt)：

導波層が下記一般式I【化1】(式中、R1は下記式II【化2】で表される基のうちいずれかの基であり、R2は下記式III【化3】で表される基のうちいずれかの基であり、Xは独立して下記式IV【化4】で表される基のうちいずれかの基であり、Rf、R’fおよびR”fはそれぞれ独立して下記式V【化5】で表される基のうちいずれかの基である)で表される繰り返し単位を1種またはそれ以上有する感光性含フッ素ポリイミドを含むことを特徴とする光導波路素子。

IPC (3)：

G02B 6/12 ,  C08G 73/10 NTF ,  G02B 6/13

FI (2)：

G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M