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J-GLOBAL ID：200903076737537562

露光装置、その保守方法並びに同装置を用いた半導体デバイス製造方法及び半導体製造工場

Inventor： 荒川 貴吉
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 伊東 哲也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000348713
Publication number (International publication number)：2002151400
Application date： Nov. 15, 2000
Publication date： May. 24, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 露光光として紫外光を用い、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、装置内の紫外光路を不活性ガスで部分的に有効にパージする手段を開発する。【解決手段】 レチクルステージ7とこれを支持するレチクル定盤10に紫外光が通る開口部を設け、レチクルホルダ13のレチクル吸着面14に吸着溝15を設け、ホルダ13にも紫外光が通る開口部を設け、レチクルステージ7開口部にステージ7の下端部からレチクル定盤10近傍に向かって紫外光路を囲う囲い17を設け、レチクル6とステージ7と囲い17と定盤10と投影光学系19で形成される空間に不活性ガスからなるパージガスを吹き込む供給口16を設ける。囲い17の代わりに又は囲い17と共に、レチクル定盤10開口部にシートガラスを設けても良い。

Claim (excerpt)：

レチクルのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、レチクルを保持して搬送するレチクルステージ及び該レチクルステージを相対可動に支持するレチクル定盤に露光光が通過する開口部を設け、前記レチクルステージ開口部の前記レチクル定盤側に、少なくともレチクルを露光位置に配置した際に前記レチクルステージ開口部と前記レチクル定盤開口部を周辺部から概略遮蔽するための囲い手段を設けたことを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/22

FI (5)：

G03F 7/20 502 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 503 G ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 515 F

F-Term (14)：

2H097AB09 ,  2H097BA10 ,  2H097CA13 ,  2H097EA01 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5F046AA22 ,  5F046AA28 ,  5F046BA05 ,  5F046CB17 ,  5F046CB20 ,  5F046CB27 ,  5F046DA27 ,  5F046DD06