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J-GLOBAL ID：200903076747745929

プラズマ装置

Inventor： 田嶋 直樹 ,  滝 薫 ,  高木 茂行 ,  内田 裕 ,  岡本 昇
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996176443
Publication number (International publication number)：1998022098
Application date： Jul. 05, 1996
Publication date： Jan. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】本発明は、大面積基板の処理を行うときの活性種密度を均一化する。【解決手段】マイクロ波導波管9のH面にスロット21、22を形成し、自由空間を伝搬するマイクロ波の波長をλo 、マイクロ波導入窓10の誘電率をε、マイクロ波導波管9内を伝搬するマイクロ波の波長をλg 、nを整数とすると、スロット幅dをd≦λo /5に形成し、スロット間距離Dを【数1】に形成し、かつスロット長さLを(2n/3)・λg /2≦L≦(4n/3)・λg /2を満足するように形成する。

Claim (excerpt)：

マイクロ波導波管を伝搬してきたマイクロ波をスロットからマイクロ波導入窓を通して気密容器に導入し、この気密容器内の媒質ガスを励起するプラズマ装置において、前記スロットを前記マイクロ波導波管内に進行する前記マイクロ波の電界方向に垂直な面(H面)に複数をほぼ互いに平行に形成し、かつ前記スロットは、自由空間を伝搬するマイクロ波の波長をλo とすると、d≦λo /5を満足するスロット幅dに形成したことを特徴とするプラズマ装置。

IPC (3)：

H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065

FI (3)：

H05H 1/46 B ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/302 A