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J-GLOBAL ID：200903076773476928

熱処理装置

Inventor： 大加瀬 亘
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン東北株式会社
Agent (1)： 井上 一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992130192
Publication number (International publication number)：1993299369
Application date： Apr. 23, 1992
Publication date： Nov. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】 縦型熱処理装置での処理空間の加熱容量の変化を極小とすること。【構成】 縦型プロセスチューブ12の上方には面状発熱源18が配置され、ウエハ28はその下端開口10a側より搬入出される。この下端開口10aには気密室で構成されたウエハ28の受渡し室110が配置される。この受渡し室100には、下端開口10aと対向する領域にて開閉し、かつ、縦軸方向で異なる複数箇所に2段の遮熱用シャッタ32,36が配置される。各シャッター32,36は一対のシャッター板32a,32b及び36a,36bより構成される。

Claim (excerpt)：

縦型熱処理炉の下端開口より被処理体を搬入出する熱処理装置において、前記縦型熱処理炉の下端開口の下方に気密室を配置し、かつ、前記下端開口と対向する領域にて開閉する、遮熱用シャッターを縦軸方向で異なる複数箇所に配置し、前記被処理体の搬入出時に少なくともいずれか一つの前記遮熱用シャッターが、前記下端開口と対向する領域にて閉鎖状態に設定されることを特徴とする熱処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/22 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/324

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭61-002330
  
• 特開昭64-046921
  
• 特開昭62-217612
  
• 特開平4-162419