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J-GLOBAL ID：200903076847264723

排ガス浄化用触媒及びその製造方法

Inventor： 奥村 公平 ,  兵頭 志明 ,  須田 明彦 ,  寺尾 直洋 ,  新庄 博文
Applicant, Patent owner： 株式会社豊田中央研究所
Agent (1)： 大川 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997054452
Publication number (International publication number)：1998249198
Application date： Mar. 10, 1997
Publication date： Sep. 22, 1998
Summary：

【要約】【課題】貴金属自体の凝集を抑制して微粒子状の貴金属のシンタリングを抑制し、かつ担持される貴金属粒子の平均粒径を制御して粒径分布を狭くする。【解決手段】平均粒径が1〜100nmの超微粒子状の第1担体粒子1に貴金属を担持し、次いで第1担体粒子1と同等以上及び/又は同等未満の平均粒径を有する第2担体粒子3と均一に混合する。担持後の熱処理により貴金属塩は超微粒子状メタルとなるが、第1担体粒子もほぼ同様の大きさであるため、第1担体粒子1個に対して貴金属粒子が約1個担持されることとなる。そして第2担体粒子の介在により、担持された貴金属粒子どうしの近接が阻止され、シンタリングが抑制される。

Claim (excerpt)：

平均粒径が1〜100nmの超微粒子状の第1担体粒子と該第1担体粒子と同等以上及び/又は同等未満の平均粒径を有する第2担体粒子とよりなり該第1担体粒子と該第2担体粒子とが均一に混合されてなる担体と、該第1担体粒子に担持された貴金属と、を含んでなることを特徴とする排ガス浄化用触媒。

IPC (6)：

B01J 23/38 ZAB ,  B01D 53/94 ,  B01J 21/16 ,  B01J 33/00 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/02 301

FI (6)：

B01J 23/38 ZAB A ,  B01J 21/16 A ,  B01J 33/00 B ,  B01J 35/02 J ,  B01J 37/02 301 C ,  B01D 53/36 104 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 触媒の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-081951   Applicant：株式会社豊田中央研究所
• 特開昭63-197546
  
• 特開平4-200637