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J-GLOBAL ID：200903076850717747

デュレンの気相接触酸化用流動触媒

Inventor： 高 木 克 彦 ,  成 瀬 義 弘 ,  浅 見 幸 雄 ,  藤 井 進
Applicant, Patent owner： 川崎製鉄株式会社 ,  触媒化成工業株式会社
Agent (1)： 渡辺 望稔 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993118401
Publication number (International publication number)：1994063402
Application date： May. 20, 1993
Publication date： Mar. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】デュレンを気相触媒酸化して無水ピロメリット酸を製造する反応において、固定床に比し格段に有利な流動床に用いることができ、十分な強度と適度な嵩密度を有する高活性・高選択性の流動床用触媒。【構成】酸化チタン、シリカおよび酸化ホウ素からなる(A)成分70〜97重量部と、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化ナトリウムならびに、酸化モリブデン、酸化アンチモン、酸化ビスマスおよび酸化タングステンよりなる群から選ばれた少なくとも1つの化合物からなる(B)成分3〜30重量部とを含み、かつ(A)成分において、B2 O3 /TiO2 =0.02〜0.5(重量比)、SiO2 /TiO2 =0.1〜0.9(重量比)の範囲にあることを特徴とするデュレンの気相接触酸化用流動触媒。

Claim (excerpt)：

酸化チタン、シリカおよび酸化ホウ素からなる(A)成分と、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化ナトリウムならびに、酸化モリブデン、酸化アンチモン、酸化ビスマスおよび酸化タングステンよりなる群から選ばれた少なくとも1つの化合物からなる(B)成分とを含み、(A)成分70〜97重量部に対して、(B)成分3〜30重量部の割合で含み、かつ(A)成分中の各構成成分の含有比が、B2 O3 /TiO2 =0.02〜0.5(重量比)SiO2 /TiO2 =0.1〜0.9(重量比)の範囲にあることを特徴とするデュレンの気相接触酸化用流動触媒。

IPC (5)：

B01J 23/28 ,  B01J 23/31 ,  C07D307/89 ,  C07D493/04 101 ,  C07B 61/00 300