Pat

J-GLOBAL ID：200903076859419510

ポジ型フオトレジスト組成物

Inventor： 佐藤 健一郎 ,  河辺 保雅 ,  青合 利明
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994063859
Publication number (International publication number)：1995225476
Application date： Mar. 31, 1994
Publication date： Aug. 22, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 高解像力で且つ解像力の膜厚依存性が小さく、現像ラチチュードが広く且つ現像残渣が発生しにくく、更に、経時による感光剤の析出やミクロゲルの発生がない、即ち、パーティクルの増加が認められない極めて優れた保存安定性を有するポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂及び一般式(I)で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステルを含有し、且つ、254nmの紫外線を用いて測定した高速液体クロマトグラフィーにおいて、該エステルのジエステル成分及び完全エステル成分のパターンが、それぞれ該1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/叉は-4-)スルホン酸エステルの全パターン面積の40%以上及び10%未満であるポジ型フオトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂及び下記一般式(I)で表されるポリヒドロキシ化合物と1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホニルクロリドとのエステル化反応により得られる、一般式(I)で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステルを含有し、且つ、254nmの紫外線を用いて測定した高速液体クロマトグラフィーにおいて、該エステルのジエステル成分及び完全エステル成分のパターンが、それぞれ該1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/叉は-4-)スルホン酸エステルの全パターン面積の40%以上及び10%未満であることを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】ここで、R1〜R10:同一でも異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、環状アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基、アルケニル基もしくは水酸基、但し、R1〜R5のうち少なくとも1つ、R6〜R10のうち少なくとも1つは水酸基である、R11〜R14:同一でも異なっても良く、水素原子、アルキル基、を表す。

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027