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J-GLOBAL ID：200903076867248902

プラズマ処理装置

Inventor： 渡辺 成一 ,  古瀬 宗雄 ,  白米 茂 ,  加治 哲徳
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994048287
Publication number (International publication number)：1995263187
Application date： Mar. 18, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【構成】マイクロ波を利用したプラズマ処理装置において、マイクロ波を放射するスロットアンテナ7と減圧可能な処理室1の一部でありマイクロ波を処理室1内に導入する石英窓2との間に空間を設けるように構成した。【効果】特定モードのマイクロ波を処理室1内に導入できるので、より均一なプラズマを生成することができるという効果がある。

Claim (excerpt)：

マイクロ波を利用して前記処理室内部にプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、真空排気装置が接続され内部を減圧可能な処理室と、前記処理室内へのガス供給装置とから成るプラズマ処理装置において、前記マイクロ波を放射するスロットアンテナと前記処理室の一部でありマイクロ波を処理室内に導入する誘電体から成るマイクロ波透過窓との間に空間を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (7)：

H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H01P 1/219 ,  H01Q 13/10

FI (2)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/31 C