フオトマスク及び露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐藤正年 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991301206
Publication number (International publication number)：1993113657
Application date： Oct. 22, 1991
Publication date： May. 07, 1993
Summary：

【要約】【目的】フォトマスク側の位相シフトパターンによる位置合せマークを、ウエハステージ上からの基準発光を利用して良好に検出するとともに、より高精度なフォトマスクとウエハとの位置合せを行う。【構成】ウエハステージ32に設けられた基準発光部54から出力される照明光の発散角は、開口絞り64によって設定される。レチクル26の位置合せマークが位相シフトパターンで形成されているときは、発散角の正弦が投影光学系30の開口数の0.1〜0.3倍となるように減少して設定される。この照明光は、投影光学系30を介してレチクル26に入射する。発散角が小さくなっているので、レチクル26の位置合わせマーク上での照明光による空間的可干渉性は増大することになる。このため、位相シフトパターンも良好に検出される。

Claim (excerpt)：

感応基板上に投影転写すべきパターンと、このパターンを前記感応基板に位置合わせするための位置合せ用マークとが形成されたフォトマスクにおいて、前記位置合せ用マークが、光透過部と透過光の位相を変化させる位相シフト部とによって構成されたことを特徴とするフォトマスク。

IPC (3)：

G03F 1/08 , G03F 9/00 , H01L 21/027

FI (3)：

H01L 21/30 301 P , H01L 21/30 301 M , H01L 21/30 311 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開昭57-062052
特開平3-045950
特開昭57-062052

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