ライン光スポットで二次元イメージングを行う検査システム

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川芳樹 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000616407
Publication number (International publication number)：2002544477
Application date： May. 11, 2000
Publication date： Dec. 24, 2002
Summary：

【要約】ウェーハ検査システム、特に、半導体ウェーハ及びレチクルの検査システムが記述される。ウェーハは、細長い「リニア」または「ラインスポット」に照射される。「ラインスポット」は、基本的にウェーハ表面上の細長い照射であり、整列するいくつかの画素をカバーしてラインを形成する。リニアスポットは、1つの方向に固定して保持されるが、ウェーハはその下で他の方向に走査される。このように、二次元領域がカバーされ、イメージングすることができる。イメージングは、センサアレイ例えばラインCCDを使用して好適に実行される。好適な実施形態において、2つのリニアスポットが2つのラインCCDと共に使用される。パターン化されたウェーハを検査する場合、リニアスポットはウェーハの縦及び横軸に対して45 ゚の角度を補足して突出する。

Claim (excerpt)：

上に形成される、垂直方向を有する基板上の二次元領域の照明のための方法であって、基板上のラインスポットを照らすステップと、単一の方向に基板を走査するステップと、前記垂直方向に所定の角度で散乱する光を集めるステップと、を含む方法。

IPC (5)：

G01N 21/956 , G01B 11/30 , G03F 1/08 , H01L 21/027 , H01L 21/66

FI (5)：

G01N 21/956 A , G01B 11/30 Z , G03F 1/08 S , H01L 21/66 J , H01L 21/30 502 V

F-Term (49)：

2F065AA49 , 2F065BB02 , 2F065BB03 , 2F065CC18 , 2F065CC19 , 2F065DD04 , 2F065DD06 , 2F065FF42 , 2F065FF48 , 2F065HH05 , 2F065HH13 , 2F065HH16 , 2F065HH17 , 2F065JJ02 , 2F065JJ05 , 2F065JJ08 , 2F065JJ09 , 2F065JJ25 , 2F065LL08 , 2F065LL09 , 2F065LL28 , 2F065MM03 , 2F065PP12 , 2F065QQ01 , 2F065QQ11 , 2F065QQ23 , 2F065UU07 , 2G051AA51 , 2G051BA01 , 2G051BB01 , 2G051BB05 , 2G051BB09 , 2G051BB20 , 2G051CA03 , 2G051CA06 , 2G051CB01 , 2G051CB05 , 2G051DA07 , 2H095BD02 , 2H095BD11 , 2H095BD13 , 2H095BD17 , 2H095BD20 , 4M106AA01 , 4M106BA04 , 4M106DB04 , 4M106DB11 , 4M106DB19 , 4M106DJ04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開昭56-115945
異物検出装置および異物観察分析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-018786 Applicant：株式会社アドバンテスト
採血装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-158899 Applicant：テルモ株式会社

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