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J-GLOBAL ID：200903076930721893

硫黄化合物の除去方法

Inventor：
戸井田 康宏

About 戸井田 康宏


Applicant, Patent owner：
株式会社ジャパンエナジー

About 株式会社ジャパンエナジー


Agent (1)： 藤吉 一夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999304786
Publication number (International publication number)：2001123188
Application date： Oct. 27, 1999
Publication date： May. 08, 2001
Summary：
【要約】【目的】 炭化水素ガス中の硫黄化合物を十分低い濃度に低下させることができ、かつ、室温でも充分に吸着が可能な硫黄化合物の除去方法を提供する。【構成】 多孔質担体に銅成分が担持された比表面積150m2/g以上の吸着剤と、硫黄化合物を含有する気相成分を接触させるものである。この吸着剤と気相成分の接触を150°C以下の温度で行うこと、また、多孔質担体がアルミナまたは活性炭からなり、銅成分が吸収剤重量に対し銅元素重量として0.1〜15重量%含有され、かつ、気相成分が炭化水素または水素を主成分とすることが好ましい。
Claim (excerpt)：
多孔質担体に銅成分が担持された比表面積150m2/g以上の吸着剤と、硫黄化合物を含有する気相成分を接触させる硫黄化合物の除去方法。
IPC (5)：
C10L 3/10 CSK ,  C10L 3/10 CST ,  B01D 53/02 ,  B01J 20/08 ,  C10G 29/04
FI (5)：
B01D 53/02 Z ,  B01J 20/08 C ,  C10G 29/04 ,  C10L 3/00 CSK B ,  C10L 3/00 CST B
F-Term (12)：
4D012BA01 ,  4G066AA02B ,  4G066AA05C ,  4G066AA20C ,  4G066AA53A ,  4G066AE19C ,  4G066BA22 ,  4G066BA26 ,  4G066CA22 ,  4G066DA04 ,  4G066FA12 ,  4G066FA37
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 特開昭58-036620
  • 特開平3-213115
  • 特開平3-251253
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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