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J-GLOBAL ID：200903076963952742

パターン検査装置

Inventor： 金井 孝夫 ,  熱田 均 ,  瀬崎 吉功
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992266554
Publication number (International publication number)：1994094635
Application date： Sep. 08, 1992
Publication date： Apr. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】 過大な記憶容量を必要とせず、処理時間が短く、しかもより実際に即した繊細な欠陥の判定を行う。【構成】 画像信号PISの走査に同期して、欠陥候補検出部100では特徴抽出法により、欠陥候補とその種類を検出する。同時に、I/Fメモリ部301、302の中の1つには、欠陥候補検出部100が注目する画素の周辺領域の画像信号PISが、更新されつつ記憶される。欠陥候補が見いだされると、記憶されるI/Fメモリ301、302が切り替わる。同時に欠陥判定部200において、非同期的に時間をかけて、切り替わる直前のI/Fメモリ301、302の1つを精密に検査して、欠陥候補が真性であるかどうかを吟味する。【効果】 過大な記憶容量を必要とせず、処理時間が短く、しかもより実際に即した繊細な欠陥の判定が実現する。

Claim (excerpt)：

パターンを有する検査すべき対象物の画像を読み取って得られる前記パターンの画像を表現する画像信号に基づいて、前記パターンの欠陥の有無を検査するパターン検査装置であって、(a)前記画像信号を走査しつつ、当該画像信号に特徴抽出法を適用して、前記パターンにおける欠陥候補をその種類とともに検出する手段と、(b)前記画像信号が表現する画像の中の前記欠陥候補を包含する所定の領域を検査し、前記欠陥候補の種類毎にあらかじめ設定される所定の基準に基づいて、前記欠陥候補が欠陥であるかどうかを判定する手段と、を備えるパターン検査装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭62-119442
  
• 特開昭62-228150
  
• 特開平4-238207