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J-GLOBAL ID：200903076971723515

洗浄剤組成物

Inventor： 難波 富幸 ,  小山 和彦
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Agent (1)： 岩橋 祐司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993207165
Publication number (International publication number)：1995041794
Application date： Jul. 28, 1993
Publication date： Feb. 10, 1995
Summary：

【要約】【構成】 下記一般式化1【化1】[上記化1中、R及びRaは各々同一又は異る炭素数1〜8の炭化水素基を示す。R1〜R6は各々同一又は異なり、少なくとも一つが一般式化2【化2】-R7-O-G(化2中、R7は炭素数2〜20の有機基を示し、Gは単糖、オリゴ糖ないしは多糖から誘導される糖残基を示す。)で表わされる有機基を示し、残りが炭素数1〜8の炭化水素基又はヒドロキシ基を示す。m及びnの平均値は、同一又は異なる0又は正数を示し、且つ1≦m+n≦1000である。]で表わされる糖残基を有するオルガノポリシロキサン誘導体の一種又は二種以上と、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤又はノニオン性界面活性剤の一種又は二種以上と、を配合したことを特徴とする洗浄剤組成物。【効果】 使用性の改善とともに、皮膚刺激性を低減させることができる。

Claim (excerpt)：

下記一般式化1【化1】[上記化1中、R及びRaは各々同一又は異る炭素数1〜8の炭化水素基を示す。R1〜R6は各々同一又は異なり、少なくとも一つが一般式化2【化2】-R7-O-G(化2中、R7は炭素数2〜20の有機基を示し、Gは単糖、オリゴ糖ないしは多糖から誘導される糖残基を示す。)で表わされる有機基を示し、残りが炭素数1〜8の炭化水素基又はヒドロキシ基を示す。m及びnの平均値は、同一又は異なる0又は正数を示し、且つ1≦m+n≦1000である。]で表わされる糖残基を有するオルガノポリシロキサン誘導体の一種又は二種以上と、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤又はノニオン性界面活性剤の一種又は二種以上と、を配合したことを特徴とする洗浄剤組成物。

IPC (5)：

C11D 1/82 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 3/37 ,  C08G 77/14