Pat
J-GLOBAL ID：200903077034152487
X線応力測定装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999231359
Publication number (International publication number)：2001056303
Application date： Aug. 18, 1999
Publication date： Feb. 27, 2001
Summary：
【要約】【課題】 簡単な機構を有し、かつ、1回の測定で迅速に試料の残留応力を求めることを可能にするX線応力測定装置を提供する。【解決手段】 試料3にX線を照射するX線装置1と、X線装置1からのX線を細い平行ビームにするピンホールコリメータ2と、ピンホールコリメータ2を通じて試料3の測定点Oに照射されたX線が該試料3の特定の結晶面に回折されて生ずる回折X線であって、前記測定点を頂点とするコーン状に進行する回折X線XRを受けてその回折環Kの発光像を得る蛍光板4と、前記蛍光板4に生じた回折環の発光像を撮像するCCDカメラ7と、前記CCDカメラ7で撮像された回折環の像を画像処理し、前記回折環に含まれる前記試料の残留応力情報を情報処理して求めるフレームグラバー8及びパーソナルコンピュータ9を有する。
Claim (excerpt)：
X線回折法を利用して試料の残留応力を測定するX線応力測定装置において、前記試料にX線を照射するX線源と、前記X線源から前記試料の測定点に照射されたX線が該試料の特定の結晶面に回折されて生ずる回折X線であって、前記測定点を頂点とするコーン状に進行する回折X線によって形成される回折環の像を検知する検知手段と、前記検知手段で検知された回折環の像を撮像する撮像装置と、前記撮像装置で撮像された回折環の像を画像処理し、前記回折環に含まれる前記試料の残留応力情報を情報処理して求める情報処理手段とを有することを特徴とするX線応力測定装置。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (14)：
2G001AA01
, 2G001BA18
, 2G001CA01
, 2G001DA09
, 2G001GA01
, 2G001GA13
, 2G001HA01
, 2G001HA07
, 2G001HA12
, 2G001HA13
, 2G001JA02
, 2G001JA13
, 2G001KA07
, 2G001SA02
