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J-GLOBAL ID：200903077062215605

レジストの現像・リンス方法及びその装置

Inventor： 小林 俊一
Applicant, Patent owner： 川崎製鉄株式会社
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993158928
Publication number (International publication number)：1995142333
Application date： Jun. 29, 1993
Publication date： Jun. 02, 1995
Summary：

【要約】【目的】 レジストパターン(レジスト柱)の倒壊現象を防止することにある。【構成】 まず、所定のパターンに露光されたレジスト3を現像液によって現像し、現像液をリンス液によって洗い流す。次に、この上に液化炭酸ガス6を滴下・塗布し、リンス液を液化炭酸ガス6に置換する(図3(e))。そして、この液化炭酸ガス6を冷却して凍結させた後(図3(f))、昇華させることによって、リンス液を除去する(図3(g)、(h))。

Claim (excerpt)：

露光されたレジストを現像する工程と、現像後のレジストをリンスする工程と、このレジストに残存するリンス液を除去する工程とを有するレジストの現像・リンス方法において、前記リンス液が除去されて前記レジストが露出する前に、このリンス液を凍結させる工程を実施することを特徴とするレジストの現像・リンス方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/32 501

FI (2)：

H01L 21/30 570 ,  H01L 21/30 572 B