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J-GLOBAL ID：200903077098815420
カラーフィルターのパターン形成方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
森本 義弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992269813
Publication number (International publication number)：1994118222
Application date： Oct. 08, 1992
Publication date： Apr. 28, 1994
Summary：
【要約】【目的】本発明は、高精細、高品質のカラーフィルターパターンを形成する方法を提供することを目的としている。【構成】透明基板101上に形成したカーボンブラックインキ層102をエキシマレザー光を照射してブラックマトリックスパターン105形成し、その上に凹版オフセット印刷法によってR・G・Bパターンを形成する。
Claim (excerpt)：
透明基板上にブラック層を形成する工程と、前記ブラック層にエキシマレーザー光を用いてブラックマトリックスパターンを形成する工程からなるカラーフィルターのパターン形成方法。
IPC (2)：
G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
